• 에스티아이 SiC PVT 성장로의 특장점

  • PVT 성장로의 가장 중요한 부분인 원료부와 성장부의 온도구배를 효율적으로 제어할 수 있다.

  • MF 코일의 위치 변경이 용이하여 Hot-Zone의 △T를 용이하게 형성할 수 있다.

  • 각각의 공정특성이 중요한 고객의 요구에 맞춤형 장비제작이 가능하다.

  • 성장기간이 3~5일 정도로 긴 공정 시간에 대한 Data가 완벽하게 기록되며

  • 시뮬레이션 수치 해석에 의한 MF-Coil - Growing Reactor - Osilater 간 최적의 매칭과 전력제어장치가 장착된다.

  • 자체 개발한 제어 시스템은 고부가 부품의 안전회로를 장착하였고, 결정성장 프로세서의 자동화와 Log Data 전송관리가 완벽하여 재현성확보, 안전관리면에서 최적의 제어장치이다.

  Specification

  내용	4 Inch	6 Inch	8 Inch
  온도	Max 2,500℃ (2,100~2,400℃)
  장비 크기	W1500xD2200xH3500	W1500xD2300xH3500	W1600xD2300xH3750
  가열방식	MF Induction Heating
  공진 주파수 (KHz)	5~25	10~25	5~30
  가열 분위기	Vacuum & Gas(N2,Ar,H2,He/User의 요구에 따라 선택
  공급전력 (Kw)	20~40	30~50	30~60
  도가니 크기	180~210	250~290	270~300
  Reactor Quartz Tube	Single Tube Air Cooling
  제어 운용프로그램	PLC제어+ PC HMI/Log . OPC:Kepware

  (옆으로 스크롤시 내용을 더 확인할 수 있습니다.)

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